Gigaphoton推出加工装置专用的KrF雷射器G200K

日本栃木县小山市 -- (美国商业资讯) -- 半导体微影光源主要生产厂商Gigaphoton株式会社（公司总部：栃木县小山市、总裁兼执行长：浦中克己）公布，已於2019年2月开始推出最大输出200W的加工装置专用的KrF雷射器G200K。

Gigaphoton曾於2016年发表，运用半导体微影所培育高端技术能力的高可靠性準分子雷射“GIGANEX”（GIGANEX）系列，并在作为第1波推出的产品上，发表FPD製造领域的退火工程用KrF雷射器GT600K。本次发布的加工装置专用KrF雷射器G200K，则属於第2波产品。最大输出达200W的G200K，透过纳入Gigaphoton雷射器的性能安定化技术和延长模组寿命技术，实现高度可靠性，可望成为满足客户需求的加工装置专用雷射器。

Gigaphoton总裁兼执行长浦中克己指出：“Gigaphoton的『GIGANEX』秉持将在半导体微影用準分子雷射器领域长年来培育的技术应用到其他领域的理念研制而成，已形成系列化产品。在本次第2波G200K的推波助澜下，更进一步扩大产品阵容。Gigaphoton往后也将继续藉由『GIGANEX』提供解决方案，以期为产业界奉献一己之力。”

GIGAPHOTON公司简介

GIGAPHOTON公司成立於2000年，作为一家雷射器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水準的支援。更为详细的介绍请造访：https://www.gigaphoton com.

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