6月20日,國家存儲器基地項目二期在武漢東湖高新區未來科技城國家存儲器基地建設工地開工建設。據紫光集團兼長江存儲公司董事長趙偉國介紹,國家存儲器基地項目於2016年12月30日開工,計劃分兩期建設3D NAND閃存芯片工廠,總投資240億美元。其中一期主要實現技術突破,併建成10萬片/月產能,二期規劃產能20萬片/月,兩期項目達產後月產能共計30萬片。
財華網所刊載內容之知識產權為財華網及相關權利人專屬所有或持有。未經許可,禁止進行轉載、摘編、複製及建立鏡像等任何使用。
如有意願轉載,請發郵件至content@finet.com.hk,獲得書面確認及授權後,方可轉載。
更多精彩內容,請登陸
財華香港網 (https://www.finet.hk/)
財華智庫網(https://www.finet.com.cn)
現代電視 (https://www.fintv.hk)