央视《新闻联播》关注光刻胶技术难题 晶瑞股份携手姑苏实验室开展联合攻关

近日，据央视《新闻联播》报道，在苏州工业园区材料科学姑苏实验室，来自全国的十几位材料科学领域研究人员，正围绕苏州一家企业提出的光刻胶技术难题开展联合攻关。

据悉，姑苏实验室是江苏省重点科创实验室，总投资200个亿。实验室瞄准国家战略需求和苏州未来产业发展方向，汇聚全球科技人才解决产业发展中的“卡脖子”问题。虽然成立不到一年，但实验室已经在高端材料生长系统、人工智能材料大数据、光谱成像芯片三个方向取得重要进展。

创新是企业核心竞争力的源泉，很多核心技术是求不到、买不来的。众所周知，光刻机被誉为半导体制造业皇冠上的明珠，是发展国产芯片的关键技术。而光刻胶作为生产芯片的关键材料、高值耗材产品，目前主要被日本、美国企业垄断，成为我国芯片产业发展所面临的一大难题。

科技如何自立自强，“卡脖子”的核心技术如何突破？业内人士指出，这一方面需要顶层设计支持，另一方面也需要从事实体经济的企业勇于投入科研攻关。在光刻胶领域，这一趋势越来越明显，特别是近年来我国芯片产业开始高速发展，对于光刻胶的需求就更加明显了。

据悉，携手姑苏实验室联合攻关光刻胶技术难题的苏州企业正是晶瑞股份（300655）。据介绍，晶瑞股份是国内最早实现光刻胶规模量产的领先企业，公司致力于打造微电子材料企业联合体，突破中国半导体行业关键卡脖子材料。目前，公司生产的负胶已完全实现国产替代，i线光刻胶批量供应S公司、长鑫等主流半导体厂。

2021年1月19日，晶瑞股份经多方协商、积极运作购得的ASML XT 1900 Gi型光刻机，运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。市场人士分析称，此举有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。

数据显示，2019年我国g线/i线光刻胶的自给率仅有20%，KrF光刻胶自给率不足5%，ArF光刻胶则完全依赖进口，作为高值耗材的产品，我国每年都需要从海外大量进口光刻胶，这显然是不利于国内半导体产业发展的情况。

晶瑞股份表示，目前公司已完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。后续，公司将继续加强科研攻坚，提升关键设备的技术先进性，加快产品研发项目，以科技自立自强支撑实业的发展。相信，只要中国企业能够脚踏实地干下去，就必定可以打破海外的技术封锁，实现半导体产业完全自主。

来源：发布易