光刻机板块表现活跃，相关零部件产商迎国产替代机遇

原創

近期市场反弹效应渐显，作为“卡脖子”核心环节的光刻机板块亦表现活跃，11月9日，炬光科技（688167.SH）、富乐德（301297.SZ）涨20%，海立股份（600619.SH）涨停10%，蓝英装备（300293.SZ）等跟涨。

阿斯麦中国业务韧性十足，概念股大涨

消息面，截至9月30日的前三季度，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）全球净销售为203.21亿欧元，来自中国区的就有52.67亿欧元，占比25.91%。

阿斯麦的全球高级副总裁、中国区总裁沈波在进博会期间表示，今年阿斯麦中国的业务增长很快，预期全年中国区营收占比超过20%，对明年中国区业务也非常的乐观。

沈波表示：“我们2023年在中国的招聘是超过200人的，2024年我们预计业务的发展会继续带来很多需求，我们的团队的扩充应该还会是一个相对比较大的规模。”

光刻机概念闻讯股纷纷上涨，背后的逻辑是在当前科技环境的背景下，国内晶圆厂扩产不止，上游半导体设备维持高景气度，尤其是光刻机需求迎来高速增长。

光刻机集精密光学、机械和控制、材料等众多最尖端技术于一身，算是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

2022年全球晶圆前道设备销售941亿美元，光刻机占17%，是IC制造的第三大设备，但却是单机价值量最大的设备。据阿斯麦财报测算，2022年单台EUV价格约1.8亿欧元，浸没式DUV约6500万欧元。

目前市场上的高端EUV光刻机设备主要荷兰阿斯麦公司等所垄断，中高端DUV光刻机阿斯麦公司亦掌握重要话语权。

根据中国海关总署数据，2022年中国大陆IC用光刻机进口金额共39.7亿美元，其中荷兰和日本的进口金额占总金额的97%，且高端机台主要从荷兰阿斯麦进口。

但在今年6月末，荷兰政府发布了有关半导体设备出口新规，该法规于今年9月1日生效。在最新法规中，除最先进的EUV设备外，部分DUV设备（即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）也受限。

然而让所有人都意外的是，9月份，荷兰官方又发放光刻机年内发运许可，阿斯麦将能够在2023年底前继续向中国出口其NXT：2000i和更先进的DUV光刻设备。

背后的科技角逐和相关细节暂且不谈，阿斯麦事实上一直在不断地出货，中国市场的重要性是不言而喻的。

据悉，到2023年底，阿斯麦在中国市场的光刻设备装机量将突破1400台的门槛，而在2019年的时候，这个数据还只是接近千台。

产业链投资机遇一览

危机暂缓，但未来光刻机仍存在隐忧。在此背景下，未来无论是整机自研配套零部件，或是备件更换都会更多依赖国内零部件供应商，光刻机上游零部件企业迎机遇。

一台光刻机由三大核心系统和数万个零部件组成，2022年阿斯麦供应商约5000家，合计供应链支出124亿欧元，而2022年阿斯麦设备收入154亿欧元，以此测算，上游零部件成本占比约56%。

上述零部件以欧洲为主导，部分美国、中国台湾的公司亦有参与，中航证券测算，若供应链实现国产替代，对应上游零部件市场空间超150亿元。财华社根据公开资料，梳理相关零部件企业如下：

奥普光电（002338.SZ）：旗下子公司禹衡光学是亚洲最具实力的光栅编码器制造商，参与了多项行业标准的制定。公司持有禹衡光学65%的股权，并布局超精尺方面的技术投入和研发，理论上可用于光刻机。

茂莱光学（688502.SH）：公司是国际先进精密光学综合解决方案提供商，专注于精密光学器件，高端光学镜头和先进光学仪器的研发与制造。

今年上半年，公司半导体领域收入占比约1/3，旗下半导体检测设备光学模组供货KLA、Camtek；光学透镜供货SMEE，为光刻机国产化提供了重要支撑。

美埃科技（688376.SH）：公司聚焦工业级超洁净技术，覆盖国内外半导体龙头厂商，为国内光刻事业提供一臂之力。旗下半导体领域的产品包括风机过滤单元、过滤器等。风机过滤单元是洁净室空气净化的关键设备，并搭配或内置超高效过滤器，提供稳定洁净气流。

公司客户矩阵强大，覆盖中芯国际、STM、Intel等国内外头部半导体公司，2006年至今为中芯国际多地工厂供应FFU、过滤器等产品。

富乐德（301297.SZ）：公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务。

蓝英装备（300293.SZ）：公司精密清洗设备面向的高端芯片制造行业企业客户包括光刻机制造企业的合资公司，该客户负责制造光刻机的核心光学系统。

张江高科（600895.SH）：公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子装备有限公司约2.23亿元，持有微装公司10.779%的股权。公司投资上海微电子装备、华勤通讯为代表的一批集成电路优质企业，实现“中国芯”国产光刻机的重大突破。

此外，光掩膜版作为半导体产业链的上游核心材料之一，对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机，目前国内厂商逐步缩小与海外龙头企业的技术差距，相关厂商有望迎来业绩的高速增长。

清溢光电（688138.SH）：公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证及量产，同步开展130nm-65nm半导体芯片掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

结语——

光刻机仍是“卡脖子”的核心环节，但相关零部件产商的技术不断突破，有望在未来国产替代的进程中分得一杯羹，投资机会或将不断涌现。