【窥业绩】刻蚀设备龙头中微公司2021净利翻倍，国产替代加速！

原創

日期：2022年2月25日 下午7:42作者：許螣垚 編輯：lele

2月24日，中微公司(688012.SH)公告发布2021年度业绩快报。报告期内（2021年全年），公司实现营业总收入31.08亿元，同比增长36.72%；同期实现归母净利润10.11亿元，同比增长105.49%；实现归母扣非净利润3.22亿元，同比增长1281.90%。各项财务数据见下表。

根据2021三季报公布数据，去年第三季度归母净利润1.45亿元，前三季度归母净利润5.42亿元，综合以上数据计算得知，去年第四季度归母净利润4.69亿元（10.11亿元减去5.42亿元）。

中微公司是刻蚀和MOCVD设备龙头厂商，主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，正通过内生外延加速平台化布局。根据公司介绍，半导体设备是集成电路和泛半导体微观器件产业的基石，而集成电路和泛半导体微观器件，又是数码时代的基础。随着微观器件越做越小，半导体设备，特别是关键设备等离子体刻蚀设备、薄膜设备和光刻设备的极端重要性更加凸显出来。

公司所处的细分行业为半导体设备行业中的刻蚀设备行业和LED设备行业中的MOCVD设备行业。

根据2021年三季报，2021年1-9月营业收入20.73亿元，其中刻蚀设备收入为13.52亿元，占收入比例约为65.22%；MOCVD设备收入为3.04亿元，占收入比例约为14.66%。

小知识扩展：

1.MOCVD设备：

据立木信息咨询发布的《中国MOCVD设备市场调研与投资战略报告(2019版)》显示：MOCVD设备可用于LED、功率器件等多个领域，在LED外延片生产上，MOCVD设备采购金额约占LED生产线总投入的一半以上，是LED制造中最关键、最重要的设备，其工艺、技术极为复杂。

2.刻蚀：

刻蚀是用化学或物理方法对衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的过程。目前干法刻蚀在半导体刻蚀中占据绝对主流地位，市场占比超过90%。据东方财富研报，刻蚀设备作为半导体设备的中坚力量，有望率先完成国产替代。

从国内市场来看，刻蚀机尤其是介质刻蚀机，是我国最具优势的半导体设备领域，也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。我国目前在刻蚀设备商代表公司为中微公司、北方华创等。

在等离子体刻蚀设备市场中主要是两类的设备：CCP（Capacitively Coupled Plasma）电容性高能等离子体刻蚀机和ICP（Inductively Coupled Plasma）电感性低能等离子体刻蚀机。CCP设备主要是刻蚀深宽比较高的、较硬的介质材料；而ICP主要是刻蚀尺度小，厚度薄的较软的材料。由于微观器件越做越小，薄膜厚度越来越薄，线宽控制越来越严，ICP刻蚀机取代以往的CCP刻蚀设备成为市场规模占主导地位的设备。

中微公司2004年由尹志尧博士等人回国创立，2007年首台CCP刻蚀设备研制成功，2012年首台MOCVD设备研制成功，目前产品已具备国际竞争力，公司ICP刻蚀设备已趋于成熟，截至2021年6月已交付100台，Mini LED用MOCVD设备已获得大批量订单，产品品类拓展叠加市场份额提升，公司长期发展向好。此外，公司已成为世界排名前列的氮化镓（GaN）基LED设备制造商。

目前公司正加速平台化布局，现已组建团队开发LPCVD设备和EPI设备，同时通过外延式发展方式持有拓荆科技、睿励仪器、理想万里晖、山东天岳、德龙激光等公司股权，与德国DAS公司战略合作以开拓半导体行业尾气处理设备领域。公司技术积累深厚，正逐步打造成为国际一流的平台型设备企业。

华创电子点评公司业务：

公司刻蚀设备持续受益于行业高景气，MOCVD业务有望迎来拐点。刻蚀设备方面，公司ICP设备已实现批量出货，CCP设备竞争优势明显，2020年CCP设备在国内逻辑器件的两家头部厂商中市场份额达到39%，且已进入台积电、联电、格罗方德等海外晶圆厂中，未来公司有望显著受益于国产替代机遇，同时凭借产品优势扩大海外市场份额。

MOCVD设备方面，公司打破爱思强、维易科等寡头垄断格局，占据主要市场份额，Mini LED技术驱动LED芯片厂商加大投资力度，公司2021年6月发布用于Mini LED用MOCVD设备，截至2021年12月设备订单已超过100台。随着下游客户持续加码Mini LED技术，公司凭借技术优势有望显著受益于行业需求提升。

根据公司去年11月的机构调研会议纪要：至2021年6月底，公司研发人员占比约为38%。

谈及2021年业绩增长的主要因素，中微公司认为：

受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，2021年刻蚀设备收入为20.04亿元，较2020年增长约55.44%，毛利率达到44.31%；由于下游市场原因以及本年新签署的Mini-LED MOCVD设备规模订单尚未确认收入，2021年MOCVD设备收入为5.03亿元，较2020年增长约1.53%，但MOCVD设备的毛利率达到33.77%，较2020年的18.65%有大幅度提升。

公司2021年新签订单金额为41.3亿元，较2020年增加约19.6亿元，同比增加约90.5%；因实施股权激励计划，公司2021年产生股份支付费用2.15亿元，较2020年的1.24亿元增加约0.91亿元(属于经常性损益)。

面对公司当前高增长态势，机构亦表示看好，华创证券在2月22日发布的研报中认为，行业持续高景气叠加国产替代加速，国产半导体设备厂商份额持续提升；公司刻蚀设备持续受益于行业高景气，MOCVD业务有望迎来拐点。

和此前发布的业绩预告比起来，本次业绩快报公布的实际利润落在1月22日公布的业绩预告区间内，符合此前预期，且归母净利润和扣非归母净利润接近业绩预告公布的区间上沿。

据公司此前发布的业绩预告，预计2021年营业收入为31.08亿元，同比增长约36.73%；2021年实现归母净利润为9.5-10.3亿元，同比增长93.01%-109.26%；2021年实现扣非归母净利润为2.8-3.3亿元，同比增长约1100.72%-1315.13%；2021年新签订单金额为41.3亿元，同比增加约90.5%。

根据中银证券的点评：

公司2021年新签订单金额为41.3亿元，同比增加约90.5%，新增订单接近翻倍既有刻蚀设备订单的贡献也有MOCVD订单的回升，但从结构比例来看仍以刻蚀设备为新订单的主要组成部分。2021年刻蚀设备收入20.04亿元，同比增长约55%，根据订单和Fab设备采购行业趋势判断，2022年刻蚀设备销售收入大概率是加速增长。

从机构调研情况来看，公司在去年受到了非常密集的机构调研，去年5月以来，每次参与调研的机构总量基本都在百家以上（见下表）。

从表中可以看到，每月1日都有一批机构来公司调研，可谓非常受机构重视。不过，离现在最近的一次机构调研是去年11月01日，至今还暂无调研公告。

根据2021年三季报，需注意合同负债与存货高增。

截至2021Q3，公司合同负债为8.93亿元，同比+76.75%；存货为16.58亿元，同比+38.11%。主要系公司新签订单充足，2021年1-9月新签订单金额达35.2亿元，同比+110%。