三星电子将在2nm工艺应用后端供电技术

8月23日，据《科创板日报》讯，三星电子宣布，在2纳米半导体工艺中采用后端供电(BSPDN)技术，预计将使芯片面积减少约17%，同时性能提升8%，功耗降低15%。这是三星首次公开BSPDN技术的性能改进数据。